[发明专利]用于亚微米光学光刻构图的透镜光纤阵列无效
| 申请号： | 200580044584.1 | 申请日： | 2005-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN101088048A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 杰罗姆·C·波尔奎 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁晓广;陆锦华 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据许多实施例，提供了一种用于在光敏材料上写入图形的曝光系统。所述曝光系统可以包括波导管阵列和光调制器。所述波导管阵列可以包括用于将光聚焦在辐射敏感材料上的多条光纤。所述的光调制器对耦合进多条光纤内的光进行调制。示例性的曝光系统可以降低由于慧差和失真所导致的象差，并提供了改进的对准。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微米 光学 光刻 构图 透镜 光纤 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，包括：波导管阵列，用于引导光以对辐射敏感材料进行构图，其中，所述波导管阵列包括多个波导管；以及光调制器，用于独立地对耦合进所述波导管阵列的多个波导管的光进行调制。
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