[发明专利]包括流体存储和分配容器的动态流体监测的流体存储和分配系统无效
申请号: | 200580043996.3 | 申请日: | 2005-10-24 |
公开(公告)号: | CN101268546A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·迪茨;史蒂文·E·毕晓普;詹姆斯·V·麦克马纳斯;史蒂文·M·卢尔科特;迈克尔·J·沃德延斯基;罗伯特·凯姆;小弗朗克·迪梅奥 | 申请(专利权)人: | 高级技术材料公司 |
主分类号: | H01L21/44 | 分类号: | H01L21/44;H01L21/31;C23C16/30 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;尚志峰 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种监测系统(100),用于在包括从流体供应容器中分配流体的操作期间监测流体供应容器(22、24、26、28、108)中的流体。监测系统包括:(i)一个或多个传感器(114、126),用于监测流体供应容器的或从该流体供应容器中分配的流体的特性,(ii)数据获取模块(40、132、146),可操作性地与一个或多个传感器连接,以从该流体供应容器中接收监测信号并响应性地产生与由一个或多个传感器监测的特性相关的输出,以及(iii)处理器(50、150)和显示器(52、150),可操作性地与数据获取模块连接并被安排来处理来自数据获取模块的输出以及被安排来响应性地把在流体供应容器中的流体图示、记帐文件、使用报告、和/或再供应请求等输出出来。 | ||
搜索关键词: | 包括 流体 存储 分配 容器 动态 监测 系统 | ||
【主权项】:
1. 一种在包括从流体供应容器中分配流体的操作期间用于监测在所述流体供应容器中的流体的监测系统,所述监测系统包括:(i)一个或多个传感器,用于监测所述流体供应容器的或从所述流体供应容器中所分配的流体的特性,(ii)数据获取模块,可操作性地与所述一个或多个传感器连接以从其中接收监测数据并响应性地产生与由所述一个或多个传感器监测的特性相关的输出,以及(iii)处理器和显示器,可操作性地与所述数据获取模块连接并被安排处理来自数据获取模块的输出以及响应性地将所述流体供应容器中的流体的图示输出出来。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造