[发明专利]形成抗反射薄膜的组合物,层状产品,和抗蚀剂图案的形成方法有效
申请号: | 200580043412.2 | 申请日: | 2005-11-28 |
公开(公告)号: | CN101080674A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 能村仲笃;今野圭二 | 申请(专利权)人: | 捷时雅株式会社 |
主分类号: | G03F7/11 | 分类号: | G03F7/11;H01L21/027 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 形成抗反射膜的组合物,其具有优异的适用性,在产生超细微泡方面受到了显著抑制,产生能够足够地减少驻波效应的抗反射薄膜并且具有优异的在水和碱性显影液中的溶解性。所述形成抗反射膜的组合物包含:(A)由例如2-(甲基)丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸代表的含磺酸基的丙烯酰胺衍生物和例如由2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯代表的含氟代烷基的丙烯酸酯衍生物的共聚物(盐);和(B)表面活性剂,其0.1wt%的水溶液具有在25℃下测量的45mN/m或更低的表面张力。 | ||
搜索关键词: | 形成 反射 薄膜 组合 层状 产品 抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】:
1.形成抗反射膜的组合物,包含:(A)具有至少一个由以下通式(1)表示的重复单元和至少一个由以下通式(2)表示的重复单元的共聚物和/或该共聚物的盐;和(B)表面活性剂,该表面活性剂的水溶液在25℃的温度和0.1wt%b的浓度下的表面张力是45mN/m或更少:
其中,在通式(1)中,R1表示氢原子或一价有机基团,R2表示二价有机基团;和
其中,在通式(2)中,R3表示氢原子或一价有机基团,Rf表示氟代烷基,X表示直接键、亚烷基或氟代亚烷基。
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