[发明专利]形成抗反射薄膜的组合物,层状产品,和抗蚀剂图案的形成方法有效

专利信息
申请号: 200580043412.2 申请日: 2005-11-28
公开(公告)号: CN101080674A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 能村仲笃;今野圭二 申请(专利权)人: 捷时雅株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 形成抗反射膜的组合物,其具有优异的适用性,在产生超细微泡方面受到了显著抑制,产生能够足够地减少驻波效应的抗反射薄膜并且具有优异的在水和碱性显影液中的溶解性。所述形成抗反射膜的组合物包含:(A)由例如2-(甲基)丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸代表的含磺酸基的丙烯酰胺衍生物和例如由2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯代表的含氟代烷基的丙烯酸酯衍生物的共聚物(盐);和(B)表面活性剂,其0.1wt%的水溶液具有在25℃下测量的45mN/m或更低的表面张力。
搜索关键词: 形成 反射 薄膜 组合 层状 产品 抗蚀剂 图案 方法
【主权项】:
1.形成抗反射膜的组合物,包含:(A)具有至少一个由以下通式(1)表示的重复单元和至少一个由以下通式(2)表示的重复单元的共聚物和/或该共聚物的盐;和(B)表面活性剂,该表面活性剂的水溶液在25℃的温度和0.1wt%b的浓度下的表面张力是45mN/m或更少:其中,在通式(1)中,R1表示氢原子或一价有机基团,R2表示二价有机基团;和其中,在通式(2)中,R3表示氢原子或一价有机基团,Rf表示氟代烷基,X表示直接键、亚烷基或氟代亚烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于捷时雅株式会社,未经捷时雅株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580043412.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top