[发明专利]形成抗反射薄膜的组合物，层状产品，和抗蚀剂图案的形成方法

权利要求书

1.形成抗反射膜的组合物，包含：

(A)具有至少一个由以下通式(1)表示的重复单元和至少一个由 以下通式(2)表示的重复单元的共聚物和/或该共聚物的盐；和

(B)含氟阴离子型表面活性剂，在25℃的温度和0.1wt％b的浓度下， 所述表面活性剂的水溶液的表面张力为45mN/m或更少：

其中，在通式(1)中，R¹表示氢原子或一价有机基团，R²表示二价 有机基团；和

其中，在通式(2)中，R³表示氢原子或一价有机基团，Rf表示氟代 烷基，X表示直接键、亚烷基或氟代亚烷基。

2.根据权利要求1的形成抗反射膜组合物，还包含溶剂，该溶剂包 含水和/或一价醇。

3.根据权利要求1的形成抗反射膜的组合物，其中相对于组分(A)， 组分(B)的含量为0.001-50wt％。

4.根据权利要求3的形成抗反射膜组合物，还包含溶剂，该溶剂包 含水和/或一价醇。

5.根据权利要求1的形成抗反射膜的组合物，包含：

(C)含4-12个碳原子的氟代烷基磺酸或其盐和/或含4-12个碳原子 的氟代烷基羧酸或其盐。

6.根据权利要求5的抗反射膜组合物，还包含溶剂，该溶剂包含水 和/或一价醇。

7.根据权利要求5的形成抗反射膜的组合物，其中相对于组分(A)， 组分(B)的含量为0.001-50wt％；相对于组分(B)，组分(C)的含量 为0.001-50wt％。

8.根据权利要求7的抗反射膜组合物，还包含溶剂，该溶剂包含水 和/或一价醇。

9.通过在抗蚀剂涂膜上形成抗反射膜而制造的层状产品，所述抗反 射膜由根据权利要求1-8中任一项的形成抗反射膜的组合物形成。

10.抗蚀剂图案的形成方法，其中在基材上形成抗蚀剂涂膜，并将 所述抗蚀剂涂膜用射线照射和依次进行显影以形成抗蚀剂图案，该方法 的特征在于包括以下步骤，其中

在所述抗蚀剂涂膜上，预先由根据权利要求1-8中任一项的形成抗 反射膜的组合物形成抗反射膜，此后按预定的图案将所述抗蚀剂涂膜用 射线照射，然后进行显影以除去所述抗反射膜。

11.根据权利要求10的抗蚀剂图案的形成方法，其特征在于在显影 的时候通过用碱性显影剂进行显影同时将所述抗反射膜和抗蚀剂涂膜 除去。