[发明专利]聚焦掩模无效
| 申请号： | 200580039382.8 | 申请日： | 2005-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101084567A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 德里克·安东尼·伊斯特汉 | 申请（专利权）人： | NFAB有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 车文;郑立 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 一种掩模，适用于粒子束源例如离子或电子源以形成特征和结构并且在材料表面上进行写入。该掩模包括具有多个孔的孔板以及位于孔板之下的聚焦装置。该多个孔形成阵列，由此每个板孔适于接收入射到孔板上的粒子束的一部分。然后该粒子束的每一个部分经过聚焦装置，通过该装置被聚焦到表面上。该掩模由此形成多个高分辨率的可被同时操作的聚焦粒子束。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 | ||
【主权项】：
1.一种掩模，适用于粒子束源，包括在其中具有多个孔的孔板，每一个孔适于接收入射到孔板上的粒子束的一部分；以及聚焦装置，它可被操作用于将所述粒子束的每一个所述部分聚焦到期望在其上进行写入的材料表面上。
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