[发明专利]聚焦掩模

权利要求书

1.一种掩模，适用于粒子束源，包括在其中具有多个孔的孔板，每一个孔适于接收入射到孔板上的粒子束的一部分；以及聚焦装置，它可被操作用于将所述粒子束的每一个所述部分聚焦到期望在其上进行写入的材料表面上。

2.根据权利要求1的掩模，其中该聚焦装置可被操作用于将粒子束的每一个部分聚焦成大致10nm或更小的直径。

3.根据权利要求1或2的掩模，其中每一个板孔在20nm和200m之间的范围内。

4.根据权利要求3的掩模，其中每一个板孔大致为1μm。

5.根据前面任何一项权利要求的掩模，其中该聚焦装置包括多个隔开的导电元件，它们以与孔板平行布置的方式被设置在孔板之下，所述聚焦装置具有延伸通过导电元件的多个聚焦孔，每一个聚焦孔相应于多个板孔中的一个并且与之共用纵向轴线，从而被该多个板孔的有关的一个所接收的粒子束的每一个部分进入相应的聚焦孔，通过该孔，该部分被聚焦到期望在其上进行写入的材料的所述表面上。

6.根据权利要求5的掩模，其中每一个聚焦孔在20nm和200μm之间的范围内。

7.根据权利要求6的掩模，其中每一个聚焦孔大致为3μm。

8.根据权利要求5到7的掩模，其中每一个聚焦孔大于相应的板孔。

9.根据权利要求5到8的掩模，其中该聚焦装置包括三个隔开的导电元件。

10.根据权利要求5到9的掩模，其中每一个导电元件相对于它的相邻导电元件被电偏压。

11.根据权利要求5到10的掩模，其中导电元件利用与导电元件相互间隔的多个电绝缘体而被隔开。

12.一种直写式粒子束设备，包括粒子束源和根据前面任一项权利要求的掩模。

13.根据权利要求11的直写式粒子束设备，其中该粒子束源适于提供具有在20eV到100keV的范围中的能量的入射到孔板上的粒子束。

14.根据权利要求12的直写式粒子束设备，其中该粒子束源适于提供具有在150eV到5keV的范围中的能量的入射到孔板上的粒子束。

15.根据权利要求12或13的直写式粒子束设备，其中该粒子束发生器适于提供具有大致50eV的能量的入射到孔板上的粒子束。