[发明专利]光学记录介质、其记录和再现方法及光学记录和再现装置无效

专利信息
申请号: 200580038450.9 申请日: 2005-11-07
公开(公告)号: CN101057283A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 八代彻 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/254;G11B7/244;G11B7/257;B41M5/26
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的是提供一种具有降低记录标记间串扰的高性能单面双层光学记录介质,其中即使从位于离施加激光的基底更远第二记录层中也能获得良好的记录信号性能,和其再现方法,和光学记录和再现装置。该光学记录介质具有以下方面:该光学记录介质依次包括第一基底、第一信息层、中间层、第二信息层和第二基底;第一信息层包括第一记录层;第二信息层包括第二反射层、具有有机染料的第二记录层和保护层;并且热解温度范围,对应于第二记录层中有机染料的热分析的DTA峰宽,为45℃或更低。
搜索关键词: 光学 记录 介质 再现 方法 装置
【主权项】:
1.一种光学记录介质,依次包括:第一基底、第一信息层、中间层、和第二基底,其中第一信息层包括第一记录层,第二信息层包括第二反射层、含有有机染料的第二记录层和保护层,并且对应于基于第二记录层中有机染料的热分析DTA峰宽的热解温度范围为45℃或更低。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理光,未经株式会社理光许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580038450.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top