[发明专利]用于化学气相沉积反应器的多气体分配喷射器有效
| 申请号： | 200580030594.X | 申请日： | 2005-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN101090998A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | E·A·阿穆尔;A·谷拉瑞;L·卡丁斯基;R·多普哈莫;G·S·唐帕;M·凯兹 | 申请（专利权）人： | 维高仪器股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;C23F1/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张兰英 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于化学气相沉积反应器(100)的气体分配喷射器(150)具有面向下游朝向基底(135)设置在一内表面(155)上的间隔开的部位处的前驱气体入口(160、165)，并具有设置在前驱气体入口(160、165)之间的载体开口(167)。一个或多个前驱气体(180、185)通过前驱气体入口(160、165)引入，而一基本上与前驱气体不反应的载体气体(187)通过载体气体开口(167)引入。载体气体将形成在喷射器(150)上的沉积物减到最少。载体气体开口可由形成表面的多孔板(230)或通过散布在前驱入口之间的载体入口(167)提供。气体入口可以是可移去的(1780)或同轴的(1360)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 沉积 反应器 气体 分配 喷射器 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积的方法，包括：(a)将作为多个气流的至少一个前驱气体通过气体分配喷射器内多个间隔开的前驱入口排放到反应腔室内，以使所述气流具有沿远离所述喷射器朝向设置在所述腔室内的一个或多个基底的下游方向的速度分量，所述至少一个前驱气体反应而形成沉积在所述一个或多个基底上的反应沉积物；而且，同时地(b)在所述前驱入口的多个相邻的入口之间，将至少一个与所述至少一个前驱气体基本上不反应的载体气体从所述喷射器排放到所述腔室内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于维高仪器股份有限公司，未经维高仪器股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580030594.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
