[发明专利]用于光刻光束生成的方法和系统有效
| 申请号： | 200510137769.9 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1797217A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格;J·J·M·巴塞曼斯;A·J·A·布鲁恩斯马;R·－H·穆尼格施米特;H·J·P·温克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻照射装置和方法，包括：从多个对应的辐射源接收多个源辐射光束；使多个源辐射光束沿公共光束路径偏转，由此生成了辐射投影光束；为辐射投影光束赋予截面图案；和将构图的辐射投影光束投影到基板的目标部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 光束 生成 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：照射系统，其提供辐射投影光束；独立可控元件阵列，用于赋予投影光束其截面上的图案；基板台，其支承基板；和投影系统，其将构图光束投影到基板的目标部分上；其中照射系统包括光束传递系统，其具有至少一个辐射光束偏转元件和从各个辐射源接收多源辐射光束的至少一个辐射输入，所述至少一个辐射光束偏转元件被配置为使每个接收的源辐射光束沿单一的公共光束路径偏转，以提供所述辐射投影光束。
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