[发明专利]用于光刻光束生成的方法和系统有效
| 申请号： | 200510137769.9 | 申请日： | 2005-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1797217A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格;J·J·M·巴塞曼斯;A·J·A·布鲁恩斯马;R·－H·穆尼格施米特;H·J·P·温克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 光束 生成 方法 系统 | ||
【权利要求书】：
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