[发明专利]在球面衬底上制造金刚石涂层的方法及其装置无效
申请号: | 200510094829.3 | 申请日: | 2005-10-14 |
公开(公告)号: | CN1752278A | 公开(公告)日: | 2006-03-29 |
发明(设计)人: | 卢文壮;左敦稳;徐锋;黎向锋;王珉 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 | 代理人: | 瞿网兰 |
地址: | 210016*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明针对目前急需解决了球面衬底的CVD金刚石沉积成形问题,提出了一种在球面衬底上制造金刚石涂层的方法及其装置,通过均匀表面温度场,在球面衬底表面均匀制备CVD金刚石涂层,通过在工作台的下方安装一个由特种陶瓷制成的锥形辊,锥形辊带动球面衬底旋转,使得球面衬底表面温度处于稳定状态,通过沉积纳米尺寸颗粒组成的CVD金刚石涂层来降低涂层表面粗糙度,提高涂层韧性。本发明保证了球面衬底表面沉积CVD金刚石膜时温度场均匀、稳定,使得CVD金刚石膜的成核和生长能够均匀、稳定地进行,沉积的纳米CVD金刚石涂层的表面粗糙度很低,涂层不需要进一步加工就可以直接使用。 | ||
搜索关键词: | 球面 衬底 制造 金刚石 涂层 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1、一种在球面衬底上制造金刚石涂层的方法,其特征是包括以下步骤:(1)将球面衬底呈多列均匀排放在衬底工作台上,在工作台的下方安装一个带动球面衬底旋转的锥形辊,使得球面衬底表面温度处于动态的稳定状态;(2)在工作台的上方、水冷进气室的下方、沿球面衬底列的方向直线排列若干根加热灯丝,使得加热灯丝对球面衬底的表面辐射均匀;(3)向真空室内通入反应气体,并使所述的锥形辊动作,即可在球面衬底表面通过化学气相沉积形成均匀的金刚石涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的