[发明专利]声表面波液相阵列传感器敏感膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200510085895.4 申请日: 2004-01-14
公开(公告)号: CN1721571A 公开(公告)日: 2006-01-18
发明(设计)人: 叶学松;杨明艳 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/06;H01L41/22;G01N29/02
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 林怀禹
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种声表面波液相阵列传感器敏感膜的制备方法,该传感器由多个声表面波延迟线传感器组成,通过对延迟线作开路、短路的方法可以检测液体的总体电特性参数,通过用激光脉冲沉积(PLD)技术在延迟线上制备敏感薄膜的方法,可以对液体中多种金属离子成分进行分析。本发明可在食品、工业、生物医学(如血液、体液)等领域中对液体的电特性以及多种金属离子进行定性和定量的检测。
搜索关键词: 表面波 阵列 传感器 敏感 制备 方法
【主权项】:
1、声表面波液相阵列传感器的敏感膜的制备方法,其特征是:采用脉冲激光沉积技术在声表面波延迟线阵列传感器上制备敏感通道,即:脉冲激光沉积设备主要由激光发生器(19)、透镜(12)和真空腔(14)组成,在通过真空泵(13)将真空腔抽成真空,然后通过充气口(17)充入N2气,压力为0.2mbar,将传感器基底(18)升温到90~120℃,预热15~25分钟,由激光器产生激光,通过透镜(12),利用照射在对不同金属离子敏感的靶材料(15)上后形成的等离子氛(16)将靶材料(15)沉积在敏感单元的压电基底(18)上,沉积结束后保持8~15分钟,然后在真空腔中自然降温。
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