[发明专利]用于包括反射电极的叠合膜的蚀刻组合物以及用于形成叠层布线结构的方法无效
| 申请号： | 200510074184.7 | 申请日： | 2005-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1716009A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 冈部哲;丸山岳人;小仓雅史;片冈义晴 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社;夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;C23F1/20;G02F1/1335;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的蚀刻组合物通过在单次蚀刻操作中单独对其进行使用能够同时蚀刻包括最上面的由IZO等制成的无定形透明电极膜、中间的由铝等制成的反射电极膜以及最下面的由钼等制成的防电化腐蚀膜的三层叠合膜，或者包括上面的无定形透明电极膜和下面的反射电极膜的两层叠合膜，以提供具有良好正锥形或阶梯形状的边缘的、经蚀刻的叠合膜。蚀刻组合物包括含有30至40wt％的磷酸、15至35wt％的硝酸、有机酸和阳离子产生成分的水溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 包括 反射 电极 叠合 蚀刻 组合 以及 形成 布线 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻组合物，其用于湿蚀刻三层的叠合膜或两层的叠合膜，该三层的叠合膜包括最上面的无定形的透明电极膜、中间的铝或铝合金反射电极膜和最下面的防电化腐蚀膜，该两层的叠合膜包括上面的无定形透明电极膜和下面的铝或铝合金反射电极膜，所述蚀刻组合物包括含有30至45wt％的磷酸、15至35wt％的硝酸、有机酸和阳离子产生成分的水溶液。
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