[发明专利]用于包括反射电极的叠合膜的蚀刻组合物以及用于形成叠层布线结构的方法无效
| 申请号： | 200510074184.7 | 申请日： | 2005-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN1716009A | 公开（公告）日： | 2006-01-04 |
| 发明（设计）人： | 冈部哲;丸山岳人;小仓雅史;片冈义晴 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社;夏普株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;C23F1/20;G02F1/1335;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 包括 反射 电极 叠合 蚀刻 组合 以及 形成 布线 结构 方法 | ||
【说明书】：
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