[发明专利]用于涂覆光刻胶图案的组合物无效
| 申请号： | 200510068848.9 | 申请日： | 2005-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN1797195A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 李根守;文升灿 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于涂覆光刻胶图案的组合物，其包括水及包含由式1表示的重复单元的化合物。将该组合物涂覆于先前已形成的图案上，藉此有效地减小光刻胶图案的间隔或接触孔的尺寸。使用该组合物形成光刻胶图案的方法有用地应用于所有用于形成精细图案的半导体工艺中。其中，在说明书中定义了R1至R6、R′、R″和n。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 图案 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于涂覆光刻胶图案的组合物，其包含水及包括式1的重复单元的水溶性聚合物：式1![]()
其中R1至R6分别选自H、C1-C10烷基、卤素元素及-CN基团；R′及R″分别选自H、C1-C20烷基及C7-C20烷基芳基；且n为10至3,000的整数。
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