[发明专利]光致抗蚀剂剥离用组合物及剥离光致抗蚀剂的方法无效

专利信息
申请号: 200480032334.1 申请日: 2004-10-28
公开(公告)号: CN1875326A 公开(公告)日: 2006-12-06
发明(设计)人: 西岛佳孝;松本昌岳;安江秀国;武井瑞树 申请(专利权)人: 长濑化成株式会社
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42;H01L21/027;H01L21/304
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光致抗蚀剂剥离用组合物,该组合物包含具有羟基的有机伯胺或有机仲胺与碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、γ-丁内酯、1,3-二羟基-2-丙酮、或一元或二元羧酸的反应产物,该组合物根据需要还可包含有机胺、水溶性有机溶剂和/或水。该组合物能够高性能地剥离光致抗蚀剂并可防止金属配线材料的腐蚀。通过使用该组合物,在剥离之后以水冲洗的过程中不会产生诸如不溶物析出并粘附至基板等问题。
搜索关键词: 光致抗蚀剂 剥离 组合 方法
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂剥离用组合物,该组合物包含选自由下列通式(I)表示的化合物、由下列通式(II)表示的化合物、由下列通式(III)表示的化合物和由下列通式(IV)表示的化合物中的至少一种化合物(A):其中在通式(I)~(IV)中,R1和R3各自独立地表示直接键合、或表示具有1~5个碳原子的直链或支链的二价烃基,R2表示具有1~5个碳原子的直链或支链的二价烃基,X1、X2和X3各自独立地表示氢原子、OH基、或具有1~5个碳原子的烷基;并且在每个通式(I)~(IV)中,X1、X2和X3中的至少一个为OH基;在通式(III)和通式(IV)中,多个R1、R2和R3以及多个X1、X2和X3分别相同或不同;在通式(III)中,R4表示直接键合、或表示具有1~5个碳原子的直链或支链的二价烃基;在通式(IV)中,R5表示二价有机基团。
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