[发明专利]再生用于蚀刻或酸蚀铜或铜合金的含铁蚀刻溶液的方法和进行所述方法的装置

摘要

本发明描述一种再生用于蚀刻或酸蚀铜或铜合金的含铁蚀刻溶液的方法和一种进行所述方法的装置。所述方法包括将所述待再生的蚀刻溶液从蚀刻系统中馈入一密封或具有一阳极罩(8)的电解池中，所述电解池包含一阴极(1)、一惰性阳极(2)、用于从所述阴极移除电解沉积铜的构件(3)和用于收集已移除的铜并将一电位施加于所述已移除的铜的构件(4)，其中所述电解池并不具有一离子交换膜或一隔膜。

主权项

1.一种再生用于蚀刻或酸蚀铜或铜合金的含铁蚀刻溶液的方法，其特征在于下列步骤：(i)将所述待再生的蚀刻溶液从蚀刻系统中馈入一密封或具有一阳极罩(8)的电解池中，所述电解池包含一阴极(1)、一惰性阳极(2)、用于从所述阴极移除电解沉积铜的构件(3)和用于收集已移除的铜并将一电位施加于所述已移除的铜的构件(4)，其中所述电解池并不具有一离子交换膜或一隔膜；(ii)在所述阴极(1)处，电解沉积所述蚀刻溶液中所包含的铜；(iii)在所述阳极(2)处，将所述蚀刻溶液中所包含的Fe(II)氧化成为Fe(III)；(iv)移除沉积在所述阴极(1)处的铜；(v)将一电位施加于所述已移除的铜以防止所述铜的再溶解；和(vi)将经如此处理的所述蚀刻溶液返回到所述蚀刻系统中。