[发明专利]大尺寸氟化钙单晶的生长方法无效

专利信息
申请号: 200410093021.9 申请日: 2004-12-15
公开(公告)号: CN1657658A 公开(公告)日: 2005-08-24
发明(设计)人: 周国清;董永军;徐军;钱晓波;李晓清;苏凤莲;苏良碧 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/12
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种大尺寸氟化钙单晶的生长方法,其特征是采用双加热温度梯度炉进行生长,具体步骤包括:①坩埚和生长炉的预烧处理;②晶体生长;③高温原位退火。利用本发明方法生长氟化钙单晶具有大尺寸(直径大于200mm)、位错密度低(<104cm-2)、热应力小和均匀性好(Δn<10-5/cm)的特点。
搜索关键词: 尺寸 氟化钙 生长 方法
【主权项】:
1、一种大尺寸氟化钙单晶的生长方法,其特征是采用双加热温度梯度炉进行生长,具体步骤如下:①坩埚和生长炉的预烧处理:在坩埚中未装原料的情况下,对石墨坩埚和生长炉内的装置进行高温预烧结处理,具体做法:双加热温度梯度炉抽真空,真空度小于6×10-3Pa、以50~150℃/小时的速率升温到1500~2000℃,保温24~48小时,降温速率为50~150℃/小时,降至室温后打开炉罩;②晶体生长:将定向好的氟化钙籽晶放入高纯石墨坩埚的籽晶槽中,将坩埚置于坩埚定位棒的圆形凹槽内;在坩埚中放入按比例混合好的氟化铅和氟化钙原料,其中PbF2为1~2wt%,石墨坩埚上方加盖石墨板;将炉体的其它组件装配到位,放下钟罩;打开真空系统对生长炉抽高真空,当真空度小于6×10-3Pa后,启动生长控制程序,升温速率为10~100℃/小时,当温度为500~800℃时,真空度小于于6×10-3Pa时,充入高纯保护氩气或氮气,气压为0.01~0.05MP;继续升温至熔点以上温度1350~1500℃,恒温3~12小时,以2~10℃/小时速率降温至1000~1200℃;③高温原位退火:当晶体结晶结束后,温度降至1000~1200℃时,保温1~30小时,调节双加热电源的加热功率将温度梯度调整为零,实施氟化钙晶体的原位退火,退火结束后以5~20℃/小时降至室温,晶体生长完毕。
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