[发明专利]带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系无效
| 申请号： | 200410090474.6 | 申请日： | 2004-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN1619420A | 公开（公告）日： | 2005-05-25 |
| 发明（设计）人： | 黄武松;M·安耶洛普洛斯;R·苏里亚库马兰;R·W·孔;R·D·艾伦 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了倍半硅氧烷聚合物，还提供了包含这种倍半硅氧烷聚合物的光刻胶组合物，其中至少部分倍半硅氧烷聚合物包含氟化残基，并且至少部分倍半硅氧烷聚合物包含具有低的酸催化分裂活化能的侧基可溶解性抑制环状缩酮酸不稳定残基。本发明的聚合物还包含促进光刻胶在碱性水溶液中的碱可溶性的侧基极性残基。本发明的聚合物尤其可用于正光刻胶组合物中。本发明包括使用这种光刻胶组合物在基底上形成图案状结构的方法，特别包括多层(例如双层)光刻方法，这些方法能够在例如193nm和157nm的波长生成高分辨率图像。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 环状 缩酮 保护 光刻 胶体 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶组合物，所述组合物含有含倍半硅氧烷主链和可抑制溶解性的酸不稳定环状缩酮侧基的酸敏成像聚合物，该侧基残基具有低的酸催化分裂活化能，并且至少部分所述成像聚合物被氟化。
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