[发明专利]用于浸没式光刻的液体组合物及光刻法无效
| 申请号： | 200410081983.2 | 申请日： | 2004-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1700096A | 公开（公告）日： | 2005-11-23 |
| 发明（设计）人： | 孔根圭;金炯崙;金炯秀;郑载昌;李晟求 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明披露用于浸没式光刻的液体组合物，及使用该组合物的光刻法。该液体组合物包括至少一种非离子表面活性剂，其选自聚乙烯醇、季戊四醇类化合物、包含环氧烷的聚合物以及化学式I代表的化合物，其中R为直链或支链的取代的C1－C40烷基，且n为10到10,000的整数。该液体组合物的表面张力由于非离子表面活性剂的存在而下降，因此可解决该液体组合物在具有精细布局的晶片上无法被完全填满和被部分浓缩的问题，并且可移除光刻胶膜和该液体组合物之间的微形气泡。(见式Ⅰ) | ||
| 搜索关键词： | 用于 浸没 光刻 液体 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于浸没式光刻的液体组合物，包含主要成份和添加剂，其中该主要成份为水且该添加剂为非离子表面活性剂。
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