[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410071464.8 | 申请日： | 2004-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN1573576A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | R·A·乔治;桂成群;P·W·H·德伽葛尔;R·E·范柳文;J·萡沪恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻装置，其中在基底的曝光期间检查基底上的对准标记、以便优化曝光条件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：-照明系统，提供辐射投射光束；-构图部件，用来使投射光束在其横截面内具有图案；-基底台，支承基底；-投影系统，把形成图案的光束投影到基底的靶部，-检测器，在基底位于投影系统将形成图案的光束投影到基底的位置的同时、检查基底；和-控制器，响应来自检测器的信息调整至少下述一个参数：被投影到基底的图案相对于基底的位置；被投影到基底的图案的放大率；和最佳聚焦象面；其中，检测器有多个传感器，用于同时检查横跨基底整个宽度的基底的多个部分；构图部件和投影系统布置成曝光基底的整个宽度；由此可以在基底相对于装置的单次通过中检查和曝光基底。
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