[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200410071464.8 | 申请日： | 2004-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN1573576A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | R·A·乔治;桂成群;P·W·H·德伽葛尔;R·E·范柳文;J·萡沪恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【说明书】：
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