[发明专利]熔体法生长的碲镉汞材料N型热处理方法无效
申请号: | 200410066229.1 | 申请日: | 2004-09-09 |
公开(公告)号: | CN1605661A | 公开(公告)日: | 2005-04-13 |
发明(设计)人: | 萧继荣;林杏潮;龚海梅;杨晓阳;张莉萍;陆荣;邵秀华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 200083*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种熔体法生长的碲镉汞材料N型热处理方法,该方法的特征是:在已有的碲镉汞N型热处理方法前插入一种低汞压热处理方法,这种方法能有效消除与Hg、Cd过量相关的位错,使材料成品率和性能得到提高。本发明的最大优点在于对仪器设备没有作任何改变,只是在工艺上略作变动,却获得很好的效果。 | ||
搜索关键词: | 熔体法 生长 碲镉汞 材料 热处理 方法 | ||
【主权项】:
1.一种熔体法生长的碲镉汞材料的N型热处理方法,其步骤如下:A.首先将玻璃管和石英舟用洗洁精清洗并用水冲净后在铬酸中浸泡4小时,用去离子水冲洗15次,烘干待用;B.将研磨过的碲镉汞样品用丙酮、去离子水与酒精超声清洗干净后放在滤纸上自然干燥;然后将晶片插入石英舟后推入玻璃管,在推入玻璃管之前先在管内滴入半粒黄豆大小的汞滴;C.将上述装有晶片与汞滴的玻璃管接入真空系统抽真空至0.02Pa后封下;D.将经排气密封装有晶片的玻璃管推入双温区管式电炉内,进行消除位错的低汞压热处理,其特征在于热处理条件为:将样品加热至300-350℃,汞源加热至50-100℃,恒温处理10-15天;E.然后将样品温度降至280-300℃,汞源温度升至低于样品0-20℃,继续热处理至少30天后取出玻璃管,冷却到室温。
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