[发明专利]成膜装置、成膜方法、有机EL元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200410062408.8 | 申请日： | 2004-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN1578548A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 丹博树;梅津茂裕 | 申请（专利权）人： | 日本东北先锋公司 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;H05B33/12 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种成膜装置、成膜方法、有机EL元件及其制造方法。在对面积较大的基板进行成膜时，可以达到良好的图形形成精度及均匀的膜厚。具备相对成膜对象的基板(1)至少具有排列成直线状的多个成膜单元(20a)的线状排列成膜源(20)，在使线状排列成膜源(20)和基板(1)的一方或两方在与该排列方向交叉的方向(箭头方向)上移动的同时，在基板(1)上进行成膜，该线状排列成膜源(20)将成膜单元(20a)配置成，使各成膜单元(20a)的移动轨迹间距(pm)小于沿着直线状排列方向相邻的成膜单元(20a)间的排列间距(p)。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 有机 el 元件 及其 制造 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，包括至少具有呈直线状排列的多个成膜单元的线状排列成膜源，一面使所述线状排列成膜源和基板的一方或两方在与该排列方向交叉的方向移动一面在所述基板上进行成膜，其特征在于，将所述线状排列成膜源的成膜单元配置成，使所述各成膜单元的移动轨迹间距小于沿着所述直线状排列方向相邻的所述成膜单元间的排列间距。
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