[发明专利]大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法

摘要

本发明公开了一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法，在于整个大尺寸光罩基材(空白光罩)或蚀刻后未修补前光罩的缺陷信息被光罩检查装置读出后，进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷信息。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置，而非关键区域是指可被接受的缺陷位置。对大尺寸光罩基材而言，若缺陷位置均位于非关键区域内，则此光罩基材被视为可接受。而对大尺寸光罩部分，光罩修补系统只需对位于关键区域的光罩缺陷进行修补即可。

主权项

1、一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位的方法，包含：放置一光罩基材于一光罩检查系统；撷取该光罩基材影像于该光罩检查系统；该光罩检查系统比对该光罩基材影像；输出该光罩基材的缺陷位置于该光罩检查系统；及判断该光罩基材的缺陷位置；其中当该缺陷位置全部位于非关键区域时，该光罩基材可被接受。