[发明专利]用于缺陷定位的系统与方法无效

专利信息
申请号: 200380101404.X 申请日: 2003-10-03
公开(公告)号: CN1705889A 公开(公告)日: 2005-12-07
发明(设计)人: 吉雷德·阿尔莫盖;克里斯·塔尔博特;利奥·莱文 申请(专利权)人: 应用材料以色列公司;应用材料股份有限公司
主分类号: G01R31/308 分类号: G01R31/308
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 任永武
地址: 以色列瑞*** 国省代码: 以色列;IL
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摘要: 一种用于缺陷定位的系统及方法包括:(i)接受一测试结构(400),如一集成电路,其包括至少一导体(426)其至少部分地被一光电活性物质(410)所覆盖用以提供一有关于该测试结构的至少一或多个导体的电子现况的指示;(ii)提供一电信号至该导体,如对该导体的至少一部分充电;及(iii)用光学机构(430)将该测试结构成像用以将一缺陷定位。
搜索关键词: 用于 缺陷 定位 系统 方法
【主权项】:
1.一种缺陷定位方法,其包含:接受一测试结构,该测试结构包括至少一导体及一光电活性物质,该光电活性物质被设置成可提供一有关于该测试结构的至少一或多个导体的电子现况的指示;提供一电信号至该导体;及将该测试结构形成影像,用以将一缺陷定位出来。
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