[实用新型]纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机无效
| 申请号： | 200320109845.1 | 申请日： | 2003-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN2668648Y | 公开（公告）日： | 2005-01-05 |
| 发明（设计）人： | 李冬生;张源斌 | 申请（专利权）人： | 陕西百纳科技发展有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/22 |
| 代理公司： | 西安新思维专利事务所有限公司 | 代理人： | 商宇科 |
| 地址： | 710043陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种纳米离子低温镀制金刚石膜的镀膜机。包括三坐标工作台2，三坐标工作台2一侧设置有固体离子源16，另一侧设置有气体离子源1，该固体离子源16主要由滤质器5和引弧室8构成，三坐标工作台2通过滤质器5与引弧室8相接，滤质器5为三维弯管结构，其内壁设置有水套6和质量分离器7，引弧室8包括阳极筒10、碳靶11、靶修磨器9和引弧杆14，碳靶11设置在阳极筒10内，靶修磨器9和引弧杆14分别设置在阳极筒10两侧。本实用新型沉积温度低、应用范围广、膜质参数与金刚石性能参数相近且易实现自动控制。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 离子 低温 金刚石 镀膜 | ||
【主权项】：
1、一种纳米离子低温镀制金刚石膜镀膜机，包括三坐标工作台(2)，其特征在于：所述三坐标工作台(2)一侧设置有固体离子源(16)，另一侧设置有气体离子源(1)，该固体离子源(16)主要由滤质器(5)和引弧室(8)构成，所述三坐标工作台(2)通过滤质器(5)与引弧室(8)相接，所述滤质器(5)为三维弯管结构，其内壁设置有水套(6)和质量分离器(7)，所述引弧室(8)包括阳极筒(10)、碳靶(11)、靶修磨器(9)和引弧杆(14)，所述碳靶(11)设置在阳极筒(10)内，所述靶修磨器(9)和引弧杆(14)分别设置在阳极筒(10)两侧。
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