[发明专利]用于调整带电的法拉第屏蔽上的电压的方法有效
| 申请号： | 03818433.8 | 申请日： | 2003-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1672237A | 公开（公告）日： | 2005-09-21 |
| 发明（设计）人： | S·P·罗霍卡尔;A·库蒂;A·D·拜利三世 | 申请（专利权）人： | 兰姆研究有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;梁永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用来调整施加在电感耦合等离子体刻蚀设备的法拉第屏蔽上的电压的设备与方法。一适当电压被便利地且可变地施加至法拉第屏蔽上，以便可以控制等离子体的溅射，以避免及减少非挥发性反应产物的沉积，该非挥发性反应产物会负面影响刻蚀工艺。通过简单调整调谐电容器，将用于特定刻蚀工艺或步骤的适当电压施加至法拉第屏蔽。因此不需要机械性的重新配置刻蚀设备来调整法拉第屏蔽电压。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 调整 带电 法拉第 屏蔽 电压 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合等离子体刻蚀设备，包含：反应室；反应室窗，用以密封该反应室的上端开口，该反应室窗具有暴露于该反应室的内部区域的内表面；金属屏蔽，配置于该反应室窗的上面；线圈，配置于该金属屏蔽的上面并且与其隔开，该线圈具有输入端、输出端与长度；导电的分接头，用以将该线圈连接至该金属屏蔽；以及控制电路，与该输入端和输出端电连接，该控制电路被设置为供应RF功率至该输入端，该控制电路包含一电容器与该输出端电连接，该电容器被设置为可被调整，用以将该金属屏蔽上的电压控制在一接近零的电压电平到一较高的电压电平的范围之间，其中选择工艺电压位于该范围内。
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