[发明专利]磁等离子体控制电容耦合等离子体反应器无效
| 申请号： | 03816804.9 | 申请日： | 2003-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN1669108A | 公开（公告）日： | 2005-09-14 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·J·后曼;马修·L·米勒;杨姜久;蔡希晔;麦可·巴尼斯;石川哲也;叶洋 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王学强 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体反应器包括真空腔及工件支座。该真空腔包括限定真空室的侧壁和顶板，工件支座在该室内并面向顶板以支撑平面工件，工件支座和顶板共同限定工件支座和顶板间的工作区域。工作气体进气口提供工作气体注入到反应室。等离子源功率电极连到RF功率发生器上，以便将等离子源功率电容耦合到反应室来维持室内的等离子体。该反应器进一步包括至少一邻近顶板的第一高架螺线管电磁体，且该高架螺线管电磁体、顶板、侧壁和工件支座位于一共同对称轴上。电流源连接到该第一螺线管电磁体上并提供该第一螺线管电磁体中的第一电流，这样在该室内产生一磁场，该磁场是该第一电流的函数，该第一电流有一值，通过磁场来增加所述工件支座表面附近的对称轴周围的等离子体离子密度径向分布的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 控制 电容 耦合 反应器 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体反应器，包括：真空腔，该真空腔包括限定真空室的侧壁和顶板以及工件支座，该工件支座在所述室内并面向顶板用于支撑平面工件，所述工件支座和所述顶板共同限定工件支座和顶板间的工作区域；工作气体进气口，用于将工作气体供入到所述反应室中；RF功率发生器和等离子源功率电极，该等离子源电极连到RF功率发生器上，用来将等离子源功率电容耦合到反应室以维持室内的等离子体；至少一邻近所述顶板的第一高架螺线管电磁体且所述高架螺线管电磁体、所述顶板、所述侧壁和所述工件支座位于一共同对称轴上；电流源，该电流源连接到所述第一螺线管电磁体上并在所述第一螺线管电磁体中提供第一电流，藉以在所述真空室内产生磁场，该磁场是所述第一电流的函数，且所述第一电流有一值，通过磁场来增加所述工件支座表面附近的对称轴周围的等离子体离子密度径向分布的均匀性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料有限公司，未经应用材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03816804.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
