[发明专利]器件检验有效
| 申请号： | 03164841.X | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1534271A | 公开（公告）日： | 2004-10-06 |
| 发明（设计）人： | A·J·德博伊夫;F·博内布罗伊克;H·A·J·克拉梅;M·杜沙;R·J·F·范哈伦;A·G·M·基尔斯;J·L·克鲁泽;M·范德沙尔;P·J·范维南;E·C·莫斯;P·W·H·贾格;H·范德拉安;P·F·利尔曼恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G02B5/18;G03F9/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种器件检验的方法，该方法包括在器件上提供一个被检验的不对称标记，标记的不对称形式由要检验的参数决定，引导光至标记，通过检测特定波长的衍射光或衍射角，获得标记的第一位置测量，通过检测不同波长的衍射光或衍射角，获得标记的第二位置测量，比较第一与第二所测量位置以确定表示标记不对称程度的位移。 | ||
| 搜索关键词： | 器件 检验 | ||
【主权项】：
1、一种器件检验的方法，该方法包括在器件上提供一个被检验的不对称标记，该标记的不对称形式由被检验的参数决定，引导光至标记，通过检测一个特定波长的衍射光或衍射角，获得标记的第一位置测量，通过检测一个不同波长的衍射光或衍射角，获得标记的第二位置测量，比较所测量的第一与第二位置以确定表示标记不对称程度的位移。
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