[发明专利]设计相栅图形的方法，以及光掩模系统的制造方法

摘要

一种相栅图形的设计方法和使用设计方法制造光掩模的方法，目的在于提高光刻工艺的清晰度。选择在光刻工艺将原始掩模的图形投影到晶片上使用的修改照明的形式。用于制备修改照明的相栅图形的至少一部分占据的区域被分成几个子单元。相值被任意指定为子单元的初始相值。相值被随意指定或者任意一个相值被指定为每个子单元。随机选择一个子单元，优选与前一指定相值不同的相值被新指定到随机的选定子单元。重复这些步骤制备指定到子单元的相值的新排列。估算相值的排列以确定是否它们的任何一个对应于选定的修改照明的相栅图形。当实现这种对应时，根据相值排列制成的相栅图形制备为辅助掩模的一部分，或者是主掩模的一部分。

主权项

1.一种相栅图形的设计方法，该方法包括：选择在光刻工艺中所提供的相栅的照明的修改形式；将相栅图形的至少一部分占据的区域分成几个子单元；为子单元任意指定多个相值中的一个，从而每个子单元具有一个初始相值，每个相值代表光刻工艺的曝光光线将穿过对应于子单元的相位图形光栅区域的各自的相位偏移；随机选择子单元中的一个，并为选中的子单元中的一个指定多个相值中的一个，重复所述随机选择各子单元中的一个，以及所述为其分配相值，从而产生为子单元分配多个相值的排列；以及根据相值的排列，估算每个多个相值的排列中的一个相对于相栅图形的倾向的不同，以产生对应于要修改的照明形式的修改照明形式。