[发明专利]设计相栅图形的方法，以及光掩模系统的制造方法有效
| 申请号： | 03142997.1 | 申请日： | 2003-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1487363A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | 朴钟洛 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G03F1/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谢丽娜;谷惠敏 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 设计 图形 方法 以及 光掩模 系统 制造 | ||
【权利要求书】：
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