[发明专利]制造光学器件的方法和适用于该方法的检验规有效
| 申请号： | 03124955.8 | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1493861A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 越前谷清行 | 申请（专利权）人： | 东芝松下显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 矩形透明片15印有黑点密度图案21与22，每一个点的尺寸为30μm，图案21与22的打点区占有率为3％－45％。在对平板显示器件上的非均匀性作密度级评估时，密度图案21与22用作标准基准。这种密度级评估方法是将均性与图案21和22作比较，或者目检置于前者上的后者。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 光学 器件 方法 适用于 检验 | ||
【主权项】：
1.一种制造光学器件的方法，其特征在于，包括：把检验规置于所述光学器件的主表面，所述检验规备有形成在透明片或膜上的密度图案；和按密度比较所述光学器件的光学非均匀性与所述检验规的所述密度图案，判断所述光学非均匀性在密度上是否亮于或暗于或者等于所述检验规的所述密度图案。
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