[发明专利]制造光学器件的方法和适用于该方法的检验规有效
| 申请号： | 03124955.8 | 申请日： | 2003-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN1493861A | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | 越前谷清行 | 申请（专利权）人： | 东芝松下显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 李家麟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制造 光学 器件 方法 适用于 检验 | ||
【说明书】：
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