[发明专利]用于照射敏化基片的曝光装置无效
| 申请号： | 03124136.0 | 申请日： | 2003-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN1456904A | 公开（公告）日： | 2003-11-19 |
| 发明（设计）人： | 梁荣光;D·凯斯勒 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B27/10;G02B27/28;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳,梁永 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置(10)，用于将高强度、均匀偏振的UV照射作用于敏化表面，如LCD对准层。远心投影系统(20)向表面(28)投影均匀光用于照射。一个或多个单独的光源(12)可以被组合以提供表面(28)上的区域所需的强度。具有合成结构(42)的积分器(40)允许合成来自多个光源(12)的光。在曝光照射路径上的可选数目的位置之一提供偏光镜(18)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 照射 敏化基片 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种装置，用于基片的均匀照射，包括：提供源照射的光源；用于使所述源照射均匀化，以提供在整个区域上具有均匀能量的均匀曝光束的均匀化组件；用于调节所述均匀曝光束，以提供偏振均匀曝光束的偏光镜；以及用于将所述偏振均匀曝光束投影到所述基片上的远心投影系统。
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