[发明专利]光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置有效
| 申请号： | 03101593.X | 申请日： | 2003-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1448796A | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | G－J赫伦斯;S·N·L·当德斯;F·A·C·J·斯潘杰斯;A·L·H·J·范米尔;T·J·M·卡斯坦米勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B11/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻设备，设备清洁方法，设备制造方法和由该方法制造的设备。其中在一低压环境中，一个电压被施加在靠近表面的工具尖端和所述表面之间。所述表面上的污染物被吸引并附着在工具上。一激光器可被用来就地清洁光刻投影设备中的元件。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 清洁 方法 装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种光刻投影设备，包括：射线系统，用于提供一射线投影光束；用来支持图形化装置的支持结构，该图形化装置用来根据所需的图形将投影光束图形化；用来支持基底的基底台；和投影系统，用来将已图形化的光束投射到基底的目标部分上，其特征在于：包括清洁装置，其用于就地清洁光刻设备的元件，所述清洁装置包括：污染物分离装置，其利用电磁场使污染物从要被清洁的元件表面分离；和将已分离的污染物从所述装置除去的污染物去除装置。
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