[发明专利]光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置有效
| 申请号： | 03101593.X | 申请日： | 2003-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1448796A | 公开（公告）日： | 2003-10-15 |
| 发明（设计）人： | G－J赫伦斯;S·N·L·当德斯;F·A·C·J·斯潘杰斯;A·L·H·J·范米尔;T·J·M·卡斯坦米勒 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B11/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维尔*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 清洁 方法 装置 制造 | ||
【说明书】：
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