[发明专利]保护膜形成用材料无效
| 申请号： | 02141011.9 | 申请日： | 2002-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1388414A | 公开（公告）日： | 2003-01-01 |
| 发明（设计）人： | 越山淳;胁屋和正 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H05K3/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种将埋入材料向通孔中填充时,埋入性和平坦性都优异的保护膜形成用材料,其特征是含有有机溶剂和至少具有2个以上的脂环结构的化合物。另外,作为上述化合物,可以是从螺环烃化合物、二环单萜烯化合物、金刚烷化合物和甾类化合物中选出的至少一种。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 用材 | ||
【主权项】：
1、一种保护膜形成用材料，其特征是，含有有机溶剂、和至少具有2个以上的脂环结构的化合物。
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