[发明专利]保护膜形成用材料无效
| 申请号： | 02141011.9 | 申请日： | 2002-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1388414A | 公开（公告）日： | 2003-01-01 |
| 发明（设计）人： | 越山淳;胁屋和正 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H05K3/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 用材 | ||
【权利要求书】：
1、一种保护膜形成用材料，其特征是，含有有机溶剂、和至少具有2个以上的脂环结构的化合物。
2、根据权利要求1记载的保护膜形成用材料，其特征是，上述化合物是从螺环烃化合物、二环单萜烯化合物、金刚烷化合物、和甾类化合物中选出的至少1种。
3、根据权利要求1或2记载的保护膜形成用材料，其特征是，上述化合物是甾类系化合物。
4、根据权利要求1～3中的任一项记载的保护膜形成用材料，其特征是，上述化合物是从胆汁酸系化合物中选出的至少1种。
5、根据权利要求1～4中的任一项记载的保护膜形成用材料，其特征是，上述化合物具有1或2个羟基和从羧基中选出的至少1种取代基。
6、根据权利要求1～5中的任一项记载的保护膜形成用材料，其特征是，还配合从含氮化合物之中选出的至少1种化合物，该含氮化合物至少具有2个用羟基烷基或烷氧基烷基、或这两方取代的氨基。
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