[发明专利]多晶硅氢还原炉的可变截面积进气口装置

摘要

多晶硅氢还原炉的可变截面积进气口装置，涉及半导体多晶硅氢还原炉的喷口结构。其特点是与炉底壁(4)固为一体的固定喷口(1)外面套有一个可旋转的转动喷口(9)，转动喷口(9)的顶端开有与固定喷口(1)数量、形状、尺寸、位置一样的中心孔(10)和扇形孔(11)。转动喷口(9)与固定喷口(1)、炉底壁(4)及上压板(7)连接处分别装有上滚珠(6)、中滚珠(5)和下滚珠(2)。转动喷口(9)上配有链轮(12)，链轮(12)通过两根密封轴(13)与炉底壁(4)外的一个带有变速箱的伺服电机连接。本发明可按工艺需要，自动旋转转动喷口(9)及时调整进气口的截面积大小，从而获得最佳工艺，制得高质量和高产率的多晶硅。

主权项

1.多晶硅氢还原炉的可变截面积进气口装置，其特征在于：由固定喷口(1)、下滚珠(2)、链轮固定螺栓(3)、炉底壁(4)、中滚珠(5)、上滚珠(6)、上压板(7)、上压板固定螺栓(8)、转动喷口(9)、中心孔(10)、扇形孔(11)、链轮(12)、密封轴(13)、密封圈(14)、密封盖(15)、压紧螺栓(16)、支撑筋(17)、下盖板(18)、支撑圈(19)组成；固定喷口(1)通过下盖板(18)、支撑筋(17)和压紧螺栓(16)与炉底壁(4)固为一体；固定喷口(1)的顶端面上开有一个中心孔(10)和6个扇形孔(11)，固定喷口(1)外周设有带凹槽的支撑圈(19)，该凹槽内装有下滚珠(2)，固定喷口(1)的外面套有转动喷口(9)；转动喷口(9)的顶端开有与固定喷口(1)数量、形状、尺寸、位置都一样的中心孔(10)和扇形孔(11)，且两个中心孔(10)的中心线重合；转动喷口(9)顶端面的外周设有向下的折边，该折边与转动喷口(9)形成凹槽，凹槽内装有中滚珠(5)；转动喷口(9)的顶端与炉底壁(4)上装有上压板(7)，上压板(7)上开有凹槽，凹槽内装有上滚珠(6)，上压板(7)与炉底壁(4)接触处通过上压板固定螺栓(8)将上压板(7)和炉底壁(4)固为一体；转动喷口(9)下部的外圆周上开有链轮齿，链轮齿上配有链轮(12)，并通过链轮固定螺栓(3)将链轮(12)的中点固定在转动喷口(9)上，在链轮(12)的两端固定连接两根密封轴(13)，两根密封轴(13)分别穿过炉底壁(4)上设有的2个密封盖(15)和密封圈(14)后，与炉外的一个带有变速箱的伺服电机连接。