[发明专利]具有ID标记的半导体晶片,及从中生产半导体器件的方法和设备无效
| 申请号: | 02124538.X | 申请日: | 2002-03-21 |
| 公开(公告)号: | CN1384544A | 公开(公告)日: | 2002-12-11 |
| 发明(设计)人: | 有门経敏;岩濑政雄;灘原壮一;有働祐宗;牛久幸広;新田伸一;宫下守也;菅元淳二;山田浩玲;永野元;丹沢勝二郎;松下宏;土屋憲彦;奥村胜弥 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
| 主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/70;H01L27/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 半导体晶片具有倾斜轮廓,沿着半导体晶片的周边形成;形成在该晶片上的产品;和形成在倾斜轮廓上的ID标记。该ID标记至少显示产品的属性、生产条件和检测结果。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 id 标记 半导体 晶片 从中 生产 半导体器件 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.半导体晶片,包括:倾斜轮廓,沿着所述晶片的周边形成;各个产品,形成在所述晶片上;和ID标记,形成在所述倾斜轮廓上,并且包含数据,该数据包括所述产品的属性、生产条件和检测结果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02124538.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。





