[发明专利]碱液的制造方法、碱液及其应用、药液涂布装置及其应用无效

专利信息
申请号: 02119275.8 申请日: 2002-05-14
公开(公告)号: CN1385760A 公开(公告)日: 2002-12-18
发明(设计)人: 高桥理一郎;早崎圭;竹石知之;伊藤信一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;G03F7/32;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 为抑制光刻胶膜显影时产生缺陷或者产生疏密图形尺寸差,利用显影液供给喷嘴111在表面已形成经曝光感光性光刻胶膜的被处理基板100上供给溶解有氧化性气体分子的显影液,进行感光性光刻胶膜的显影。
搜索关键词: 制造 方法 及其 应用 药液 装置
【主权项】:
1、一种碱液的制造方法,其特征在于使溶解在碱性水溶液中具有氧化性或还原性的气体分子溶解的方法制造碱液。
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