[发明专利]碱液的制造方法、碱液及其应用、药液涂布装置及其应用

权利要求书

1、一种碱液的制造方法，其特征在于使溶解在碱性水溶液中具有氧化性或还原性的气体分子溶解的方法制造碱液。

2、一种碱液的制造方法，其特征在于将具有上述氧化性或还原性的气体分子在纯水中溶解的液体和碱性水溶液混合制造碱液。

3、按照权利要求1或2所述的碱液的制造方法，其特征在于作为将上述具有氧化性的气体分子，氧、臭氧、一氧化碳和过氧化氢中至少一种气体溶解在上述碱性水溶液中。

4、按照权利要求1或2所述的碱液的制造方法，其特征在于作为将上述具有还原性的气体分子，氢、H₂S、HNO₂和H₂SO₃中至少一种气体溶解在上述碱性水溶液中。

5、按照权利要求1所述的碱液的制造方法，其特征在于上述碱液中的碱浓度在1％以上，小于4％。

6、按照权利要求1所述的碱液的制造方法，其特征在于上述碱液中碱浓度在1％以上和饱和浓度以下。

7、一种碱液，其特征在于用权利要求1或2记载的碱液的制造方法制造。

8、一种图形的形成方法，其特征在于包括：

在被处理基板上涂布感光性光刻胶膜的工序，

对上述感光性光刻胶膜曝光的工序，

向上述感光性光刻胶膜供给溶解具有氧化性或还原性气体分子的显影液，使该光刻胶膜显影的工序，和

向上述被处理基板表面供给清洗液，清洗该基板的工序。

9、按照权利要求8所述的图形的形成方法，其特征在于自显影液供给喷嘴向上述感光性光刻胶膜喷出显影液，同时使上述被处理基板和上述显影液供给喷嘴作相对移动，使该光刻胶膜表面形成显影液膜，使上述感光性光刻胶膜显影。

10、按照权利要求9所述的图形的形成方法，其特征在于上述显影液膜形成后，使该显影液膜在上述感光性光刻胶膜上流动。

11、按照权利要求8所述的图形的形成方法，其特征在于使用氧化性液体或还原性液体作供给被处理基板上的清洗液。

12、一种光刻胶膜的剥离方法，其特征在于包括：

在基体上形成感光性光刻胶膜图形，向以该光刻胶膜作掩模对该基体进行腐蚀处理后的被处理基板供给溶解具有氧化性或还原性的气体分子的碱性剥离液，使该光刻胶膜剥离的工序，和

在上述被处理基板上供给清洗液，清洗该基板的工序。

13、一种药液涂布装置，其特征在于具有：

保持被处理基板的被处理基板保持台，

由使氧化性气体在碱液中溶解的装置或使还原性气体在碱液中溶解的装置中任一装置构成的气体溶解装置，

将利用这种气体溶解装置溶解有该氧化性气体或还原性气体的碱液，向该被处理基板主面供给的碱液供给喷嘴，和

向上述被处理基板主面供给清洗液的供给喷嘴。

14、一种基板的处理方法，其特征在于包括：

在被处理基板上涂布感光性光刻胶膜的工序，

使上述感光性光刻胶膜曝光的工序，

向曝光的上述感光性光刻胶膜表面供给具有还原作用的液体，进行前处理的工序，

使进行了上述前处理的感光性光刻胶膜显影的工序，和

在上述被处理基板上供给清洗液，清洗该基板的工序。

15、按照权利要求14所述的基板处理方法，其特征在于上述具有还原作用的液体是包括氢、H₂S、HNO₂和H₂SO₃中至少一种气体的水溶液。

16、照权利要求14所述的基板处理方法，其特征在于自显影液供给喷嘴向上述感光性光刻胶膜喷出显影液，同时使上述被处理基板和上述显影液供给喷嘴作相对移动，使该光刻胶膜表面形成显影液膜，使上述感光性光刻胶膜显影。

17、按照权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于边搅拌上述

显影液膜边使上述感光性光刻胶膜显影。