[发明专利]显示装置及其制造方法有效
申请号: | 02118164.0 | 申请日: | 2002-04-23 |
公开(公告)号: | CN1383352A | 公开(公告)日: | 2002-12-04 |
发明(设计)人: | 佐竹瑠茂 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H05B33/02;H01L33/00;G09F9/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 吴立明,梁永 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种使用有机发光元件的显示装置。通过避免点缺陷和改善长期可靠性,使该装置结构化以确保优异的显示性能。使用装在像素部分的斜坡的顶部和装在驱动电路部分的绝缘膜的顶部,控制有机发光元件和密封基底间的距离。其结果,在有机发光元件和密封基底间提供一种间隙,能够避免有机发光元件的损伤。进一步,密封基底能够尽可能地靠近元件基底,从而,保持从显示装置周边进入显示装置的潮湿量小。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种显示装置,该装置包含:一种至少含有一种有机发光元件的元件基底;一种与元件基底相对的密封基底;一种用于连接元件基底和密封基底的密封构件;至少一种在元件基底之上的斜坡,其中斜坡的顶部和密封构件的顶部与密封基底接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/02118164.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:与环境和谐形倾斜坡面保护用覆盖块体
- 下一篇:清筛机与清筛道碴的作业方法