[发明专利]平面光延迟器的设计方法及结构无效

专利信息
申请号: 02110871.4 申请日: 2002-02-21
公开(公告)号: CN1367397A 公开(公告)日: 2002-09-04
发明(设计)人: 刘坚;施斌;樊永良;赵登涛;蒋最敏;王迅 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03;H04B10/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属光通讯技术领域,具体为一种平面光延迟器的设计方法及结构。本发明根据光子晶体缺陷态之间相互耦合的理论,研究了缺陷层厚度和透射谱之间的关系,缺陷层之间的结构的周期数和透射谱之间的关系以及不同数量的缺陷对器件的性能所造成的影响。本发明所设计的光延迟器可以是在多晶Si/非晶SiO2多层膜中引入多个缺陷态,利用缺陷态之间的相互耦合,使得器件的透射频谱加宽,满足高速光通信的基本要求。同时该器件能与硅平面集成工艺兼容,具有良好的应用前景。
搜索关键词: 平面 延迟 设计 方法 结构
【主权项】:
1、一种平面光延迟器的设计方法,其特征在于根据传输矩阵的方法设计周期性的多层膜系,然后在膜系中间加入多个光学厚度与周期层厚度不同的其他膜层,从而引入多个缺陷层;调节缺陷层的参数,使得局域态对应的共振透射峰的波长刚好是工作波长λ0,利用各个缺陷态之间的相互耦合,使得透射峰在很大的频谱范围内被展宽;上述设计中,多层膜系的两端分别为2-3个周期正常膜系,而在膜系的中间则为N+1个缺陷层和KN个正常膜系交替的结构,缺陷层的光学厚度与周期层的不同或是沉积一层与周期层材料不同的膜层,K≥4,N为缺陷层个数,N取5~200。
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