[发明专利]一种液晶显示器阵列衬底的制造方法无效
申请号: | 02108754.7 | 申请日: | 2002-03-29 |
公开(公告)号: | CN1379277A | 公开(公告)日: | 2002-11-13 |
发明(设计)人: | 黄旷兆;金佑炫 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;G03F7/20;G03F7/26 |
代理公司: | 隆天国际专利商标代理有限公司 | 代理人: | 徐金国,陈红 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种液晶显示器阵列衬底的制造方法包括以下步骤通过在一衬底上形成一金属材料,在该衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积一绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 液晶显示器 阵列 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示器阵列衬底的制造方法,包括以下步骤:在一衬底上形成一选通线和一栅极;在该衬底上形成一选通绝缘层;在该选通绝缘层上形成一有源层和一欧姆接触层;在该衬底上形成一数据线、一源极和一漏极;通过在该衬底上淀积绝缘材料形成一钝化层;通过对该钝化层制作图案形成一漏极接触孔,该漏极接触孔露出漏极的一部分;在该钝化层上形成一透明金属层;在该透明金属层上形成一阻光层;通过将一掩模设置在阻光层之上来执行一曝光过程,该掩模包括一阻光部分、一缝部分和一透光部分;和通过对曝光的阻光层进行显影和对所曝光的透明金属层进行蚀刻,形成一象素电极。
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