[发明专利]半导体显影剂无效
| 申请号： | 01822782.1 | 申请日： | 2001-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN1491374A | 公开（公告）日： | 2004-04-21 |
| 发明（设计）人： | 苏维扬;S·L·斯卓伯格;W·C·克劳弗德 | 申请（专利权）人： | 胡茨曼石油化学公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供在生产半导体－基电路元件或其前体中有用的显影剂溶液，其含有三(2－羟乙基)甲基氢氧化铵。本发明的显影剂是三(2－羟乙基)甲基氢氧化铵的含水溶液或者醇溶液，其中优选进一步包括稳定剂。通过使用本发明提供的组合物，大大地降低的挥发性胺含量在显影工艺过程中释放，由于降低的空气基杂质导致这会减轻对清洁的室内空气纯化设备的负担。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 显影剂 | ||
【主权项】：
1.一种在加工半导体基电路器件和其前体中用作显影剂的组合物，包括三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵水溶液。
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