[发明专利]光学信息介质及其使用无效
| 申请号： | 01805033.6 | 申请日： | 2001-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1401117A | 公开（公告）日： | 2003-03-05 |
| 发明（设计）人： | G·F·周;J·C·N·里珀斯 | 申请（专利权）人： | 皇家菲利浦电子有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳,陈霁 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于利用激光束(10)进行高速可擦除记录的光学信息介质(20)。基板(1)上有层叠(2)，层叠(2)带有第一介电层(5)和第二介电层(7)、位于第一介电层(5)和第二介电层(7)之间的相变记录层(6)及反射层(3)。记录层(6)有Ge和Te的化合物，而且至少第一介电层(5)由Ta和Si的氧化物、Si和Al的氮化物或Si的碳化物组成，并与记录层(6)接触。记录层(6)还可以包含数量高达5at.％的O或N。有低CET值的宽可用成分范围可以获得。从而实现了高数据速率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 信息 介质 及其 使用 | ||
【主权项】：
1.一种用于利用有激光波长的激光束(10)进行可擦除记录的光学信息介质(20)，所述介质(20)有基板(1)和在其上面提供的层的层叠(2)，层叠(2)包括第一介电层(5)和第二介电层(7)，位于第一介电层(5)和第二介电层(7)之间的能够在非晶态和晶态之间改变的记录层(6)，及反射层(3)，其特征在于记录层(6)包含通式为GexTe100-x的化合物，其中：x是Ge的以at.％的百分率，且30＜x＜70，第一介电层(5)包含选自Ta和Si的氧化物、Si和Al的氮化物及Si的碳化物的化合物，而且其与记录层(6)接触。
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