[发明专利]磁复制方法及磁复制装置无效
| 申请号： | 01802244.8 | 申请日： | 2001-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1386267A | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 桥秀幸;浜田泰三;石田达朗;东间清和 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/86 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘宗杰,王忠忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 包括准备磁盘的工序1(ST103);在磁盘上形成润滑剂层的工序2(ST105);使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在磁盘上,通过施加外部磁场,将在磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在磁盘上的工序3(ST108)以及对磁盘的至少与磁复制用主盘紧密接触的一侧表面进行抛光处理的工序4(ST104、ST106)。按照工序1、工序4、工序2、工序4、工序3的顺序实施。 | ||
| 搜索关键词： | 复制 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁复制方法，其特征在于：包括准备磁盘的工序1；在上述磁盘上形成润滑剂层的工序2；使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在上述磁盘上，通过施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上的工序3；以及对上述磁盘的至少与上述磁复制用主盘紧密接触的一侧表面进行抛光处理的工序4，上述各工序按照上述工序1、上述工序4、上述工序2、上述工序4、上述工序3的顺序进行。
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