[发明专利]磁复制方法及磁复制装置

权利要求书

1.一种磁复制方法，其特征在于：

包括准备磁盘的工序1；

在上述磁盘上形成润滑剂层的工序2；

使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在上述磁盘上，通过施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上的工序3；以及

对上述磁盘的至少与上述磁复制用主盘紧密接触的一侧表面进行抛光处理的工序4，

上述各工序按照上述工序1、上述工序4、上述工序2、上述工序4、上述工序3的顺序进行。

2.根据权利要求1所述的磁复制方法，其特征在于：工序1之后实施抛光处理的工序4中的研磨构件对上述磁盘的按压力比工序2之后抛光处理中的按压力大。

3.一种磁复制方法，其特征在于：

包括使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在上述磁盘上的工序；

通过对互相紧密接触的上述磁复制用主盘和上述磁盘施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上的工序；以及

用光学方法检测上述磁盘表面上的缺陷的缺陷检测工序，

在由上述缺陷检测工序确认了上述磁盘表面上的缺陷数或缺陷的大小在规定值以下后，进行上述磁复制工序。

4.一种磁复制装置，其特征在于：

备有使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在磁盘上的紧密接触装置；

通过对互相紧密接触的上述磁复制用主盘和上述磁盘施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上的复制装置；以及

用光学方法检测上述磁盘表面上的缺陷的缺陷检测装置，

在由上述缺陷检测装置检测出上述磁盘表面上的缺陷数或缺陷的大小在规定值以下后，由上述紧密接触装置及上述复制装置进行磁复制。

5.一种磁复制方法，其特征在于：

包括使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在上述磁盘表面上的工序；

通过对互相紧密接触的上述磁复制用主盘和上述磁盘施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上的工序；以及

通过用检测用磁头从上述磁盘表面上浮规定的距离在上述磁盘上进行扫描，检测上述磁盘上的缺陷的检测工序，

在上述磁复制工序后进行上述检测工序。

6.根据权利要求1所述的磁复制方法，其特征在于：

还包括从上述磁盘表面上浮规定的距离后，用检查用磁头在上述磁盘上进行扫描，检测上述磁盘上的缺陷的工序5，

在上述工序3之后执行上述工序5。

7.根据权利要求6所述的磁复制方法，其特征在于：上述工序1之后实施抛光处理的工序4中的研磨构件对上述磁盘的按压力比上述工序2之后实施上述抛光处理中的按压力大。

8.一种磁复制方法，该方法是使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在磁盘表面上，通过施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上，该磁复制方法的特征在于：

包括检测盘缺陷的检查工序，

在上述检查工序中检查清除用盘表面，在确认了缺陷数或缺陷的大小在规定值以下后，

对上述清除用盘反复进行规定次数的使上述磁复制用主盘紧密接触/离开的操作，

此后，使上述磁盘和上述磁复制用主盘紧密接触，进行磁复制。

9.一种磁复制方法，该方法是使至少在一面上形成了磁性膜的磁复制用主盘紧密地接触在磁盘表面上，通过施加外部磁场，将在上述磁复制用主盘上形成的磁性膜的图形复制在上述磁盘上，该磁复制方法的特征在于：

包括检测盘缺陷的检查工序，

在反复进行了规定次数的使上述磁复制用主盘对清除用盘紧密接触/离开的操作后，

使上述磁复制用主盘对通过上述检查工序确认了应与上述磁复制用主盘紧密接触的面上的缺陷数或缺陷的大小在规定值以下的检查用盘紧密接触，

其次，通过上述检查工序对上述检查用盘进行缺陷检查，在确认了表面上的缺陷数或缺陷的大小在规定值以下的情况下，使上述磁盘和上述磁复制用主盘紧密接触，进行磁复制。